应用领域:  HMDS预处理真空烤箱用于在涂胶前对晶片进行预处理。设备由腔体、真空、加热、充氮、加液及控制等系统组成。通过多次预抽真空，150ºC热氮加热，既能达到使硅片表面干燥、洁净的效果，又能够有效的防止硅片的氧化和杂质的扩散，并且可以通过加液系统在硅片表面开成HDMS保护膜，从而使硅片具有良好的涂胶性能。和手工涂布HMDS相比，具有重复性好，节省药液，环保，对人体无害的显著优点；也可用于晶片其它工艺的清洗。控制采用PLC，人机界面采用触摸屏，具有可靠性高，操作方便

产品特点：

1 微电脑智能控温系统，具有PID逻辑运算功能，控温精准可靠。双排数显，一屏显示运行温度和设定温度。操作界面人性化设计，简单易懂，操作便捷。

2 采用PLC可编辑式真空显示器。

3 泵箱一体机，真空泵自动控制。控制系统模块化，安全稳定高效。突发情况（如停电）参数自动保存，来电恢复功能，自动诊断功能，故障及超温报警功能，定时功能等。

4 外壳采用优质冷轧钢板，进口数控激光钣金设备精密加工而成，线条流畅，外观优美。表面静电镀膜喷涂，漆面牢固持久，不脱色。内胆采用优质不锈钢。

5 内胆采用优质不锈钢。四角为半圆弧设计，方便清洁消毒。搁板间距可上下调节，空间利用更充分。

6 加热元器件分布在均匀分布在内胆外壁，加热充分，温度均匀度优。

7 门密封采用优质一次成型硅胶密封圈，耐高温，抗老化，密封效果达到最优。

8 超大观测窗，外层采用透光度96%的亚克力板，内层采用强化加厚钢化玻璃，透明度高，观测清晰，视角无阻碍，观测直观清楚。

9 可根据客户要求加装以下配件：液晶程序控制器、独立限温控制系统、外联端口（485或USB）打印系统、惰性气体充气阀、惰性气体 控制系统等。